中国のチップ製造核心装置で重要なブレークスルー

2026/01/18 11:00

中核集団(中国核工業集団)傘下の中国原子能科学研究院(CIAE)が1月16日、重要なニュースを発表した。同研究院が自主開発した中国初の串列型高エネルギー水素イオン注入機(POWER-750H)が、ついにビームの抽出に成功した。この装置の主要性能指標は国際先進レベルに達しており、中国が串列型高エネルギー水素イオン注入機の全工程研究開発技術を完全に掌握したことを示している。

イオン注入機は、露光装置、エッチング装置、薄膜堆積装置とともに、半導体チップ製造の「四大核心装置」の一つであり、欠かせない必須設備だ。これまで中国は高エネルギー水素イオン注入機を完全に海外輸入に依存してきた。研究開発の難易度が高く技術的障壁も大きいため、重要技術分野の産業アップグレードを長年阻んできたボトルネックの一つだった。

中国原子能科学研究院は、数十年間にわたる核物理加速器分野の深い蓄積を活かし、串列加速器技術を核心手段として、数多くの難題を克服した。基礎原理から装置全体の統合まで、正向設計能力を完全に獲得し、海外企業によるこの分野での技術封鎖と長年の独占を打ち破った。

今回の成果は、功率半導体などの重要分野における自主保障能力を大幅に向上させるだけでなく、高端製造装置の自主・コントロールを実現し、産業チェーンの安全を確保するための強固な基盤を築く。さらに、「ダブルカーボン」目標の達成や、新質生産力の加速的発展を力強く支える技術的支柱となる。

POWER-750Hの成功は、中国の半導体製造装置国産化における歴史的な一歩であり、科学技術の自立・自強を象徴する成果だ。今後、この技術がさらに産業化され、中国のハイエンド製造業全体に広く波及していくことが期待される。

(中国経済新聞)